【中美芯片戰】傳中企擬夥日企研發光刻機 破美圍堵

國情動向 19:25 2020/10/16

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在美國政府的出口管制下,中國半導體行業困難重重。日本傳媒報道,中國企業有意提供資金,與日本企業共同開發製造芯片(晶片)的光刻設備。

中國電訊設備巨頭華為、中國芯片龍頭中芯國際,正受美國出口限制影響,不少相關企業已停止與其交易。

華為、中芯國際現轉機?

日本經濟新聞報道,華為與中芯國際可走迂迴之路。據稱中國有1000多間新興的半導體相關企業,如果華為和中芯國際購買通過這些企業進口的半導體芯片、設計軟體和製造設備,將可推進半導體採購和生産設備擴充。故此,美國出口管制短期效果成疑。而美國技術「斷供」,或推動中國半導體産業自立,甚至追趕美日歐的優勢。

目前全球只有荷蘭ASML能生産最先進的極紫外線(EUV)光刻設備,而其基礎技術的知識産權很多由美國持有。ASML目前仍未明確,EUV光刻機是否能夠無阻出口中國。

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尼康佳能可製EUV以外的光刻機

至於EUV以外的光刻機,日本的尼康(Nikon)和佳能(Canon)都有能力製造。據日本市場調查公司Globalnet推算,從EUV的上一代光刻設備來看,尼康份額去年為8%,上二代是35%;至於上三代,佳能掌握26%。如果加強符合立體化的研究開發,市佔率有望擴大。

報道引述相關人士表示,為推進EUV以外的新型光刻設備共同開發,中國企業積極向尼康及佳能,顯示出提供資金的想法。關於製造設備和設計軟體的開發,中國政府亦開始推進。

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責任編輯:林佩怡

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