【中芯國際】梁孟松辭職信藏密碼：曝中國芯片弱點與進步
發布時間： 2020/12/18 16:44
最後更新： 2020/12/18 16:44
▲ 【中芯國際】梁孟松辭職信藏密碼：曝中國芯片弱點與進步
中美科技戰白熱化的關鍵時刻，中芯國際 （00981） 聯合CEO梁孟松疑因人事問題請辭。他的辭職信中，首度披露幾個中國芯片（又稱晶片）產業發展水平的新訊息，包括7納米製程已完成開發、5納米和3納米製程因一些原因仍未展開等，當中可窺見國產芯片的進步、以及仍待解決的弱點。
台積電前營運長、中芯國際前獨立董事，武漢弘芯前任CEO蔣尚義確定回巢，任中芯國際副董事長；梁孟松疑因事前未獲知會，感到不受尊重，決定辭職離巢。
梁孟松在辭職信中透露，中芯先進製程飛快，已開發完成7納米技術，明年4月進入風險量產；至於更先進的5納米和3納米製程，只待極紫外光（EUV）機台到位，就可以進入全面開發階段。
梁孟松：我用三年完成原要十年的研發
他更直言，自己「只用三年的時間，就完成其他廠商要花十年才能達成的技術推演腳步」，中芯應該對他這三年多的貢獻給予全面公正的評價。
中芯國際是目前國內技術水平最高的芯片企業，梁孟松在辭職信中披露出的中芯提升製程時間表，可被實質視為中國推進國產芯片進步的藍圖；其中重點包括：
其一：7納米芯片何時生產
中芯過去所說的是，預計毋須使用EUV光刻機的7納米芯片，會在今年即2020年底試產。而梁孟松在此明確，7納米製程已完成研發，明年可以投入風險量產。這意味中芯將踏入先進製程水平，目前擁有7納米製程技術的，包括台積電、三星和富士通等。
其二：國產5納米和3納米芯片研製時間表
梁孟松信中的表述，反映5納米和3納米等更先進製程的研發工作，目前尚未展開。而目前，台積電已經量產的最高端5納米芯片－－台積電5納米製程A14芯片，並獲蘋果採用。而三星則在追趕台積電。
其三：國產5納米和3納米製程遇到關鍵困難
梁孟松信中透露出，這兩個更新製程的芯片，必須等到EUV光刻機才能展開，這意味必須依靠外國設備。目前有能力生產EUV光刻機的，只有荷蘭ASML和日本的Canon、Nikon，其中以ASML技術被公認最高。
但由於美國已將中芯列入出口管制清單中，加上ASML從未明確表態向中國供應最高端的極紫外光EUV光刻機，中國要從商業市場獲得EUV光刻機，似仍有相當難度，中方如何突破待觀察。
三大訊息中 中芯缺最先進設備是關鍵
另一方面，梁孟松在信中又說，這段期間，他盡心竭力完成從28納米到7納米，共五個世代的技術開發，這是一般公司需要花十年以上的時間才能達成的任務，而這些成果是由他帶領的2,000多位工程師，日以繼夜、賣命拚搏得來的。
業界分析，梁孟松先前在台積電任職時就已是戰功彪炳的戰將，深受台積電創辦人張忠謀重用，從他「只花別人三分之一不到的時間，就能達成相同的技術開發層次」來看，對中芯開發自主先進製程的重要性不言可喻。
北京商報也分析指，對於正處被美國打壓處境之中的中芯國際來說，不管是中流砥柱離開、還是內部紛爭，都會對其現下的發展造成負面影響，畢竟在芯片領域，中芯國際還沒有躋身到可以高枕無憂的市場地位。
該報引述通信專家劉啓誠指出，從芯片整個研發、生產的角度來講，中芯國際落後了台積電大概兩代半的水平。「中芯國際最大的問題是被外部力量壓制，拿不到最新最好的設備，還面臨美國打壓」。
責任編輯：鄧國強
