中芯不坐等美國扼殺 傳蔣尚義謀用這招突圍（組圖）
發布時間： 2020/12/21 20:04
最後更新： 2020/12/21 20:04
▲ 中芯不坐等美國扼殺 傳蔣尚義謀用這招突圍（組圖）
中芯國際（0981）被美國商務部列入制裁實體清單後，周日發出通告，承認10nm納米及以下先進製程將承受「重大不利」，業界指中芯技術升級恐遭遇重大障礙。但內地媒體引述消息指，中芯不坐以待斃，新任副董事長蔣尚義試圖憑其人脈、尋求買入最尖端EUV光刻機的可能性、爭取高端芯片國產化。
新浪科技引述業內人士消息指出，蔣尚義履新後，將試圖搭路、尋求與荷蘭半導體設備巨頭ASML（艾司摩爾）進行談判，希望能採購到ASML的極紫外光（EUV）設備。
蔣尚義擬搭路與ASML談判 購極紫外光設備
報道指，中芯國際一直無法從ASML取得EUV設備，儘管這家荷蘭公司在法律上不受美國行政措施的制約，但顧及與美方的關係，ASML對向中國出售最先進芯片生產設備，深深存在顧慮。
所謂EUV（極紫外光）光刻機，能利用波長非常短的光，在矽片上形成數十億個微小結構，構成一個高端芯片；與舊型設備相較，EUV設備可以生產更小、更快、更強大的芯片。
可以說，EUV是以目前技術生產高端芯片，幾乎必不可少的工具。而這款光刻機，對中芯未來發展有極關鍵作用。
中芯國際原來的執行長梁孟松15日在辭職聲明中透露信息，指已開發完成7納米技術，明年4月進入風險量產；至於更先進的5納米和3納米製程，只要EUV光刻機到來，就可進入全面開發。
ASML的EUV光刻機 生產先進芯片不能缺
換句話說，中芯就算一如所傳，目前能不用EUV便能生產7納米芯片，但如未來要開拓3納米製程，以追趕台積電，EUV是必不可少的工具。
而中芯國際周日（20日）晚間公告稱，公司被列入實體清單（Entity List）後，供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應；對用於10納米及以下技術節點（包括極紫外光技術）的產品或技術，美國商務部會採取「推定拒絕」（Presumption of Denial）的審批政策進行審核；同時中芯為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。
中芯國際並稱，經初步評估，該事項對公司短期內運營及財務狀況無重大不利影響，對10納米及以下先進工藝的研發及產能建設有重大不利影響。
聲明指，公司將持續與美國政府相關部門進行溝通，並視情況採取一切可行措施，積極尋求解決方案，力爭將不利影響降到最低。
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責任編輯：鄧國強
