EUV光刻機對芯片研製多重要?告訴你3個關鍵事實

經濟脈搏 20:38 2021/07/18

分享:

EUV光刻機對芯片研製多重要?告訴你3個關鍵事實

《華爾街日報》報道,美國向荷蘭半導體製造商阿斯麥爾(ASML Holding)施壓,要求不要向中國供應高端芯片生產設備——極紫外光(Extreme ultraviolet lithography,EUV)光刻機。此舉或令中國半導體產業發展面臨更大挑戰。何謂EUV光刻機、它對高端芯片製造有多重要,這3個關鍵問題大家必須知。

美阻ASML售中國EUV光刻機  圖遏芯片自給自足戰略

Q:ASML的EUV光刻機是什麼?

A:成立於1984年,位於荷蘭的半導體裝置製造商ASML,從業員工達2.8萬多人。該公司研發的EUV光刻機,是製造高端芯片的關鍵,被形容為全球最複雜的機器,重達180噸。它的系統使用了一種特別的光,來界定芯片上的極微小電路,從而令細小的矽片擁有更強大的性能。

EUV光刻機耗時數十年研發,於2017年開始量產,價格超過1.5億美元,折合約11.65億港元。運送機器時,需要使用40個貨櫃、20輛卡車和3架波音747飛機。

另外,機器的開發和生產涉及三大洲,使用了來自美國、德國和日本的技術和零件,正正反映著供應鏈全球化的程度。

Q:EUV光刻機與納米芯片製造有什麼關係?

A:先說很常聽到的7納米、5納米製程芯片,所謂X納米,指的是電晶體電流通道的寬度,寬度越窄,傳遞信號的速度就越快,芯片效能便得以提升。

    點擊圖片放大
    +6
    +5

而極紫外光(EUV)是一種光源波長較短的紫外光,EUV光刻機就是利用極紫外光在晶圓上進行雕刻。透過高能量、波長短的光源,將光罩上的電路圖案轉印到晶圓的光阻劑塗層。

現時的芯片多是矽基芯片,歷經大半個世紀的發展,從最初的電子管到電晶體,再到內建電路的發明,電晶體的關鍵尺寸逐漸縮小。在納米等級的尺度進行電路雕刻,當前所掌握的技術只有光刻。芯片製造與光刻技術息息相關,甚至可以說,沒有光刻機,芯片無法正常生產,而且光刻機目前並沒有代替品。

而EUV光刻機的出現,可將納米製程縮得更小,幫助半導體廠商推進芯片效能。

中美都想芯片自給自足  張忠謀這樣示警

華為擬武漢建立首間芯片廠 「哈勃戰略」曝光

Q:除了ASML,還有其他公司有光刻機嗎?

A:隨著EUV光刻技術變得越來越重要,ASML的優勢亦越發明顯。不過,光刻機供應商除ASML之外,還有日本廠商尼康(Nikon)和佳能(Canon)。兩者在深紫外線(DUV,光源波長比EUV長)的光刻技術上能與ASML競爭,但ASML作為企業龍頭,在DUV光刻領域,也擁有62%的市場份額。

責任編輯:易燕丹

緊貼中國國情最新發展,Bookmark hket.com中國頻道

跟進【中美角力】新形勢,立即了解

緊貼財經時事新聞分析,讚好hket Facebook 專版