EUV光刻機對芯片研製多重要？告訴你3個關鍵事實
發布時間： 2021/07/18 20:38
最後更新： 2021/07/18 22:05
▲ EUV光刻機對芯片研製多重要？告訴你3個關鍵事實
《華爾街日報》報道，美國向荷蘭半導體製造商阿斯麥爾（ASML Holding）施壓，要求不要向中國供應高端芯片生產設備——極紫外光（Extreme ultraviolet lithography，EUV）光刻機。此舉或令中國半導體產業發展面臨更大挑戰。何謂EUV光刻機、它對高端芯片製造有多重要，這3個關鍵問題大家必須知。
Q：ASML的EUV光刻機是什麼？
A：成立於1984年，位於荷蘭的半導體裝置製造商ASML，從業員工達2.8萬多人。該公司研發的EUV光刻機，是製造高端芯片的關鍵，被形容為全球最複雜的機器，重達180噸。它的系統使用了一種特別的光，來界定芯片上的極微小電路，從而令細小的矽片擁有更強大的性能。
EUV光刻機耗時數十年研發，於2017年開始量產，價格超過1.5億美元，折合約11.65億港元。運送機器時，需要使用40個貨櫃、20輛卡車和3架波音747飛機。
另外，機器的開發和生產涉及三大洲，使用了來自美國、德國和日本的技術和零件，正正反映著供應鏈全球化的程度。
Q：EUV光刻機與納米芯片製造有什麼關係？
A：先說很常聽到的7納米、5納米製程芯片，所謂X納米，指的是電晶體電流通道的寬度，寬度越窄，傳遞信號的速度就越快，芯片效能便得以提升。
而極紫外光（EUV）是一種光源波長較短的紫外光，EUV光刻機就是利用極紫外光在晶圓上進行雕刻。透過高能量、波長短的光源，將光罩上的電路圖案轉印到晶圓的光阻劑塗層。
現時的芯片多是矽基芯片，歷經大半個世紀的發展，從最初的電子管到電晶體，再到內建電路的發明，電晶體的關鍵尺寸逐漸縮小。在納米等級的尺度進行電路雕刻，當前所掌握的技術只有光刻。芯片製造與光刻技術息息相關，甚至可以說，沒有光刻機，芯片無法正常生產，而且光刻機目前並沒有代替品。
而EUV光刻機的出現，可將納米製程縮得更小，幫助半導體廠商推進芯片效能。
Q：除了ASML，還有其他公司有光刻機嗎？
A：隨著EUV光刻技術變得越來越重要，ASML的優勢亦越發明顯。不過，光刻機供應商除ASML之外，還有日本廠商尼康（Nikon）和佳能（Canon）。兩者在深紫外線（DUV，光源波長比EUV長）的光刻技術上能與ASML競爭，但ASML作為企業龍頭，在DUV光刻領域，也擁有62％的市場份額。
責任編輯：易燕丹
