【中美芯片戰】傳中企擬夥日企研發光刻機 破美圍堵
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發布時間： 2020/10/16 19:25
最後更新： 2020/10/16 19:25
在美國政府的出口管制下，中國半導體行業困難重重。日本傳媒報道，中國企業有意提供資金，與日本企業共同開發製造芯片（晶片）的光刻設備。
中國電訊設備巨頭華為、中國芯片龍頭中芯國際，正受美國出口限制影響，不少相關企業已停止與其交易。
華為、中芯國際現轉機？
日本經濟新聞報道，華為與中芯國際可走迂迴之路。據稱中國有1000多間新興的半導體相關企業，如果華為和中芯國際購買通過這些企業進口的半導體芯片、設計軟體和製造設備，將可推進半導體採購和生産設備擴充。故此，美國出口管制短期效果成疑。而美國技術「斷供」，或推動中國半導體産業自立，甚至追趕美日歐的優勢。
目前全球只有荷蘭ASML能生産最先進的極紫外線（EUV）光刻設備，而其基礎技術的知識産權很多由美國持有。ASML目前仍未明確，EUV光刻機是否能夠無阻出口中國。
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尼康佳能可製EUV以外的光刻機
至於EUV以外的光刻機，日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）都有能力製造。據日本市場調查公司Globalnet推算，從EUV的上一代光刻設備來看，尼康份額去年為8%，上二代是35%；至於上三代，佳能掌握26％。如果加強符合立體化的研究開發，市佔率有望擴大。
報道引述相關人士表示，為推進EUV以外的新型光刻設備共同開發，中國企業積極向尼康及佳能，顯示出提供資金的想法。關於製造設備和設計軟體的開發，中國政府亦開始推進。
責任編輯：林佩怡
